IBM vyvinulo 29,9nm čip
IBM se snaží zdokonalit dnes používanou technologii optické litografie, aby se co nejvíce oddálila potřeba přejít na nové, ale dražší způsoby výroby mikročipů. Díky vylepšené optické litografii s použitím ultrafialového záření se IBM povedlo vytvořit procesor s velikostí tranzistoru pouhých 29,9nm.
Význam technologie se zkratkou DUV (Deep Ultra Violet) je hlavně ten, že čas, kdy bude potřeba obrovských investic nastane až nejdříve za 7 let. Dnes používaný způsob výroby čipů už není použitelný na čipy s tranzistory menšími než 32nm (nebo použitelný je, ale s velkými obtížemi). Díky tomu bude možno udržet krok s Mooreovým zákonem bez většího klopýtnutí.
Jen připomínám, že v současné době je nejpokročilejším výrobním postupem 65nm, které používá Intel. V roadmapech, které vidí daleko do budoucna, nejsou plánovány čipy menší, než 45nm.